Abstrato

Efeito dos parâmetros de deposição no TiO 2 depositado eletroforeticamente

Dhiflaoui H, Khlifi K e Cheikh larbi AB

No estudo atual, revestimentos de TiO2 em substratos de aço metálico foram preparados por Deposição Eletroforética (EPD) de dispersões coloidais de nanopartículas de TiO2 em etanol. Os efeitos das parâmetros de deposição na morfologia da superfície, composição de fase e propriedades mecânicas foram investigadas. A morfologia da superfície das camadas de EPD foi observada usando Microscopia  de Força Atômica (AFM). A composição da camada de EPD foi determinada a partir da intensidade de pico usando um Difratômetro de Raios X (XRD) e as propriedades mecânicas dos filmes foram investigadas por técnicas de nanoindentação. A caracterização dos filmes obtidos por especificação de força atômica mostrou uma microestrutura relativamente uniforme. Os revestimentos consistiam principalmente de anatase e rutilo; anatase é uma fase predominante com uma porcentagem média de 71%. Como resultado de experimentos de nanoindentação, curvas de carga-deslocamento foram descobertas e duas características mecânicas do substrato e dos filmes investigados – dureza de indentação (HIT) e módulo de indentação (EIT) – foram calculadas usando métodos de aproximação de Oliver & Pharr. As propriedades mecânicas mostram uma melhora com a voltagem aplicada. Os resultados ilustram que o módulo de Young e a dureza dos filmes finos de TiO2 aumentam com o aumento da tensão.