Abstrato

Caracterização de filmes finos de Mo-AlNxOy depositados por concentração catódica por RF Magnetron

Thyago Santos Braga, Marcos Massi, Argemiro Soares Silva Sobrinho, Fabio Dondeo Origo, Choyu Otani

Filmes finos de Mo-AlNxOy foram cultivados em substratos de vidro e silício por moagem catódica de magnetron reativo a RF. A temperatura de deposição do substrato foi variada com o propósito de avaliar a variação da composição, estrutura cristalina, reflectância, absortância e band gap dos filmes. Os resultados mostraram que os filmes mais amorfos apresentaram maior absorção. O aumento da absortância e a redução do band gap são devidos à cristalinidade e à inserção de molibdênio. Essa mudança ocorreu devido ao comportamento diferente dos materiais amorfos com band gap, ao aumento de receptores/doadores de elétrons e ao efeito plasmônico causado pela inserção de molibdênio.